黑硅材料的制备及其光学特性

	黑硅材料的制备及其光学特性
	刘邦武
刊名	发光学报
	2012-12-16
英文摘要	摘要: 采用金催化化学腐蚀和钝化两个过程成功制备了黑硅。利用原子力显微镜、分光光度计、红外光谱仪和光致发光光谱仪分别对黑硅的微观结构、反射率、表面状态和发光性能进行了研究。结果表明:黑硅表面呈现山峰状的微观结构,其平均反射率可低至3.31% 。光致发光光谱上出现了 3 个发光峰,分别由量子限制效应、硅氧烯、杂质和缺陷引起。
公开日期	2013-10-17
内容类型	期刊论文
源URL	[http://10.10.10.126/handle/311049/11541]
专题	微电子研究所_微电子仪器设备研发中心
推荐引用方式 GB/T 7714	刘邦武. 黑硅材料的制备及其光学特性[J]. 发光学报,2012.
APA	刘邦武.(2012).黑硅材料的制备及其光学特性.发光学报.
MLA	刘邦武."黑硅材料的制备及其光学特性".发光学报 (2012).