| 一种新型的常压介质阻挡型活性自由基清洗设备 | |
| 王守国; 赵玲利 | |
| 2011-07-26 | |
| 著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
| 文献子类 | 发明 |
| 英文摘要 | 本发明是一种新型的常压介质阻挡型活性自由基清洗设备，包括高压电极、介质阻挡层、接地电极、电源、移动机械手、加热装置以及进气和排气系统。该设备的特性在于高压电极由介质阻挡层包裹，在常压下即可在高压电极和接地电极的间隙中发生放电，产生等离子体，在一定压力的气流带动下，放电区所产生的高活性自由基由喷口喷射出来，在喷射到需要处理的物体表面时，去除物体表面的有机物质。本发明产生的活性自由基可用于硅片无损伤去胶和有机物清洗。 |
| 公开日期 | 2012-11-20 |
| 状态 | 公开 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/10089]  |
| 专题 | 微电子研究所_微电子仪器设备研发中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王守国,赵玲利. 一种新型的常压介质阻挡型活性自由基清洗设备. 2011-07-26. |
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