一种微型低压气相淀积实验装置 | |
郭新贺; 景玉鹏; 王磊 | |
2011-06-20 | |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
文献子类 | 发明 |
英文摘要 | 本发明公开了一种微型低压气相淀积实验装置。低压气相淀积(lpcvd)是一种用途十分广泛的薄膜沉积技术,这项技术操作较为简单,薄膜的组成和结构可控,制成的薄膜与基体的结合性良好。本发明关键部分以石英为基材,操作简单,可操作性和可视性良好,淀积生成的薄膜致密性好,厚度均匀,与硅基底结合紧密,淀积速度快。该装置小巧灵活,经济实用,而且绿色环保,节省能源。 |
公开日期 | 2012-11-20 |
状态 | 公开 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/10063] |
专题 | 微电子研究所_微电子仪器设备研发中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 郭新贺,景玉鹏,王磊. 一种微型低压气相淀积实验装置. 2011-06-20. |
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