一种微型低压气相淀积实验装置
郭新贺; 景玉鹏; 王磊
2011-06-20
著作权人中国科学院微电子研究所
文献子类发明
英文摘要本发明公开了一种微型低压气相淀积实验装置。低压气相淀积(lpcvd)是一种用途十分广泛的薄膜沉积技术,这项技术操作较为简单,薄膜的组成和结构可控,制成的薄膜与基体的结合性良好。本发明关键部分以石英为基材,操作简单,可操作性和可视性良好,淀积生成的薄膜致密性好,厚度均匀,与硅基底结合紧密,淀积速度快。该装置小巧灵活,经济实用,而且绿色环保,节省能源。
公开日期2012-11-20
状态公开
内容类型专利
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/10063]  
专题微电子研究所_微电子仪器设备研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
郭新贺,景玉鹏,王磊. 一种微型低压气相淀积实验装置. 2011-06-20.
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