28nm及先导工艺集成电路可制造性设计关键技术与应用

	28nm及先导工艺集成电路可制造性设计关键技术与应用
	王海永; 张贺; 孙艳; 刘宏伟; 徐勤志; 陈岚
	2018
文献子类	中国电子学会科学技术奖技术发明类
奖励等级	二等奖
内容类型	成果
源URL	[http://159.226.55.107/handle/172511/19288]
专题	微电子研究所_EDA中心
作者单位	中国科学院微电子研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	王海永,张贺,孙艳,等. 28nm及先导工艺集成电路可制造性设计关键技术与应用. . 2018.