一种优化集成电路版图电磁分布的方法

	一种优化集成电路版图电磁分布的方法
	吴玉平; 陈岚; 叶甜春
	2012-12-05
著作权人	中国科学院微电子研究所
专利号	CN201010214250.7
国家	中国
文献子类	实用新型
英文摘要	本发明涉及一种优化集成电路版图电磁分布的方法，属于集成电路设计自动化领域。该方法包括：输入电路网表、电路仿真结果、电路的物理版图和电路的物理设计规则；进行电路分析，确定该电路中的高频器件和高频线网、敏感器件和敏感线网，以及关键器件和关键线网；根据电路的物理设计规则，在电路的物理版图上设定填充障碍；根据电路仿真结果进行电磁分析，确定电路的物理版图上的电磁热点；根据电磁热点在金属层上填充接地金属图形，直至不能通过新的接地金属填充优化电路的物理版图电磁分布；输出填充的金属图形到物理版图数据库。本发明可有效地优化集成电路物理版图上的电磁分布，屏蔽干扰源，保护敏感对象，提高集成电路工作性能和可靠性。
公开日期	2012-01-11
申请日期	2010-06-30
语种	中文
内容类型	专利
源URL	[http://10.10.10.126/handle/311049/13746]
专题	微电子研究所_EDA中心
作者单位	中国科学院微电子研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	吴玉平,陈岚,叶甜春. 一种优化集成电路版图电磁分布的方法. CN201010214250.7. 2012-12-05.