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一种冗余哑金属的填充方法及填充系统
陈岚; 吴玉平; 叶甜春
2013-06-26
著作权人中国科学院微电子研究所
专利号CN201110344322.4
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

本发明实施例公开了一种冗余哑金属的填充方法,包括:根据物理版图对应的电路网表的瞬态分析结果,计算多个线网的延时极限及其等效电学信息,其中所述电路网表包含寄生元器件;根据每个所述线网的延时极限及其等效电学信息,计算该线网可以承载的因冗余哑金属填充而给该线网引入的极限寄生电容,即该线网可以承载的额外极限寄生电容;以每个所述线网可以承载的额外极限寄生电容为上限作为约束条件优化填充冗余哑金属。从而实现了有针对性的设定各线网因哑金属填充而引入的寄生电容极限值,提高了电路中各部分金属互连线的平整度,而且保证了各线网的额外极限寄生电容对电路各部分性能的影响均在可接受的范围内,提高了集成电路设计的可制造性。

公开日期2012-02-29
申请日期2011-11-03
语种中文
内容类型专利
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/9961]  
专题微电子研究所_EDA中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
陈岚,吴玉平,叶甜春. 一种冗余哑金属的填充方法及填充系统. CN201110344322.4. 2013-06-26.
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