一种采用单次电子束曝光制备T型栅的方法

	一种采用单次电子束曝光制备T型栅的方法
	王显泰; 钟英辉; 金智; 汪宁
	2012-06-20
著作权人	中国科学院微电子研究所
专利号	CN102509704A
国家	中国
文献子类	发明专利
英文摘要	本发明涉及半导体器件工艺领域，提出一种T型栅制作的工艺方法：采用具有良好稳定度的4层结构的叠层胶，只需一次电子束写入栅脚图形，配合所本发明的多次分层显影的方法，可以获得T型栅所需的空间图形，以制备T型栅，该方法有效的减小了电子束写入面积，相应减小了机时占用。
公开日期	2012-06-20
申请日期	2011-12-26
语种	中文
内容类型	专利
源URL	[http://10.10.10.126/handle/311049/9907]
专题	微电子研究所_高频高压器件与集成研发中心
作者单位	中国科学院微电子研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	王显泰,钟英辉,金智,等. 一种采用单次电子束曝光制备T型栅的方法. CN102509704A. 2012-06-20.