一种在线检测硅纳米晶形态的方法
王永; 杨潇楠; 王琴; 刘明
2012-04-11
著作权人中国科学院微电子研究所
专利号CN200910078556.1
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

本发明公开了一种在线检测硅纳米晶形态的方法,包括:准备若干片硅片作为衬底,在该各衬底表面分别生长一隧穿介质层;用稀释氢氟酸处理衬底表面,再在该各衬底表面分别生长一层硅纳米晶;利用波长为365nm的单色光作为入射光入射至各衬底表面,由于表面材料和形貌的不同,反射光强必然会发生变化,记录各种生长时间的纳米晶硅片的反射率,建立生长时间与反射率之间的关系式;将以上各种硅片用扫描电镜和透射电镜进行破片分析,确定不同生长时间纳米晶的形态,建立不同纳米晶形态与生长时间的关系式;将纳米晶不同形态与反射率对应起来,建立相应的关系式,从而根据反射率来确定生长的纳米晶形态。利用本发明,实现了对硅纳米晶形态的在线快速检测。

公开日期2010-08-25
申请日期2009-02-25
语种中文
内容类型专利
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/8372]  
专题微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王永,杨潇楠,王琴,等. 一种在线检测硅纳米晶形态的方法. CN200910078556.1. 2012-04-11.
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