纳米压印光刻模版制作技术

	纳米压印光刻模版制作技术
	陈大鹏; 谢常青; 范东升
刊名	电子工业专用设备
	2005
卷号	34 期号:2 页码:26-32
关键词	纳米压印模版制作防粘连处理
ISSN号	1004-4507
英文摘要	在下一代光刻技术中，光刻的成本越来越高，这使得工业界开始寻找新的技术。纳米压印作为非光学的下一代光刻技术，具有分辨率高、成本低、产率高等诸多优点，因而可能应用于将来的半导体制造中。同时，纳米压印也可以用于微机电系统(MEMS)和其他纳米结构的图形复制。纳米压印光刻技术主要包括热压印、紫外固化压印和微接触法压印。介绍了在这3种纳米压印光刻技术中，压印模版制作的制作工艺和模版表面的防粘连处理，并且讨论3种压印方法适用的不同领域。
语种	中文
公开日期	2010-05-26
内容类型	期刊论文
源URL	[http://10.10.10.126/handle/311049/1240]
专题	微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室
作者单位	中国科学院微电子研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	陈大鹏,谢常青,范东升. 纳米压印光刻模版制作技术[J]. 电子工业专用设备,2005,34(2):26-32.
APA	陈大鹏,谢常青,&范东升.(2005).纳米压印光刻模版制作技术.电子工业专用设备,34(2),26-32.
MLA	陈大鹏,et al."纳米压印光刻模版制作技术".电子工业专用设备 34.2(2005):26-32.