Charge storage characteristics of metal-induced nanocrystalline in erbium-doped amorphous silicon films | |
Li, ZG; Guan, WH; Liu, M; Long, SB; Jia, R; Lv, J; Shi, Y; Zhao, XW | |
2008 | |
内容类型 | 外文期刊 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/8610] |
专题 | 微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Li, ZG,Guan, WH,Liu, M,et al. Charge storage characteristics of metal-induced nanocrystalline in erbium-doped amorphous silicon films. 2008. |
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