| 一种通过版图设计灵活控制电子束光刻显影时间的方法 | |
| 张建宏; 陈杰智 | |
| 2005-01-25 | |
| 著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
| 专利号 | CN1811598 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明 |
| 英文摘要 | 本发明涉及范围是微细加工技术领域，特别是一种版图设计灵活控 制电子束光刻显影时间的方法。曝光数据文件由正式曝光版图和测试版 图组成；将测试版图在曝光过程中设计一组变剂量，显影时间可以根据 测试版图的显影情况而灵活控制。在正式曝光版图中增加设计一组不同 剂量的图形，通过观察这些图形的显影情况来确定正确的显影时间。所 述的测试图形的版图是根据正式曝光版图来设计的，具有很大的灵活性。 这种设计方案简单易行，尽可能的降低了偶然因素对显影结果的影响， 使显影后图形与设计图形保持很好的一致性。可广泛用于电子束曝光中 的版图设计。 |
| 公开日期 | 2006-08-02 ; 2010-11-26 |
| 语种 | 中文 |
| 状态 | 公开 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/7338]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张建宏,陈杰智. 一种通过版图设计灵活控制电子束光刻显影时间的方法. CN1811598. 2005-01-25. |
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