截止频率为238GHz的亚微米InGaAs/InP异质结双极晶体管
金智; 程伟; 刘新宇; 徐安怀; 齐鸣
刊名半导体学报
2008
卷号29期号:10页码:4,1898-1901
关键词Inp 异质结构双极晶体管 平坦化 高频
ISSN号0253-4177
英文摘要

研制成功了一种无微空气桥的亚微米InP基异质结双极晶体管(HBT).发展了小于100nm的发射极侧向腐蚀工艺,实现了亚微米的InP基HBT.发射极宽度的减小有效提高了频率特性,发射极面积为0.8μm×15μm的HBT的电流增益截止频率达到了238GHz.发展了基极-集电极的侧向过腐蚀工艺,有效减小了结面积,提高了最大振荡频率.Kirk电流密度达到了3.1mA/μm2.据我们所知,电流增益截止频率是目前国内三端器件中最高的,Kirk电流密度是国内报道的HBT中最高的.这对于HBT器件在超高速电路中的应用具有十分重要的意义.

语种中文
公开日期2010-05-27
内容类型期刊论文
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/1830]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
金智,程伟,刘新宇,等. 截止频率为238GHz的亚微米InGaAs/InP异质结双极晶体管[J]. 半导体学报,2008,29(10):4,1898-1901.
APA 金智,程伟,刘新宇,徐安怀,&齐鸣.(2008).截止频率为238GHz的亚微米InGaAs/InP异质结双极晶体管.半导体学报,29(10),4,1898-1901.
MLA 金智,et al."截止频率为238GHz的亚微米InGaAs/InP异质结双极晶体管".半导体学报 29.10(2008):4,1898-1901.
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