一种在砷化镓上形成欧姆接触的新型六层金属系统
和致经; 张海英; 李海鸥; 尹军舰; 叶甜春
刊名电子器件
2006
卷号29期号:1页码:9-11,109
关键词膺配高电子迁移率晶体管 欧姆接触 退火 砷化镓
ISSN号1005-9490
产权排序1
英文摘要

研究了在砷化镓上欧姆接触形成机理,并提出了一种新型的欧姆接触六层金属系统(Ni/Gre/Au,/Ge/Ni/Au),在n型GaAs样品上实验了在380~460℃合金温度和50-120s合金时间下形成欧姆接触,在400℃、60s下典型的欧姆接触值为2.1×10^-7Ω·cm^2,同时合金后表面形貌光滑、平整。

语种中文
公开日期2010-05-26
内容类型期刊论文
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/1434]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
和致经,张海英,李海鸥,等. 一种在砷化镓上形成欧姆接触的新型六层金属系统[J]. 电子器件,2006,29(1):9-11,109.
APA 和致经,张海英,李海鸥,尹军舰,&叶甜春.(2006).一种在砷化镓上形成欧姆接触的新型六层金属系统.电子器件,29(1),9-11,109.
MLA 和致经,et al."一种在砷化镓上形成欧姆接触的新型六层金属系统".电子器件 29.1(2006):9-11,109.
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