分子镀法制备厚镅(~(241,243)Am)靶 | |
秦芝,郭俊盛,甘再国 | |
刊名 | 同位素
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2000-11-20 | |
卷号 | 2000期号:04页码:209-214 |
关键词 | 分子镀 厚镅靶 ~(241 243)Am |
通讯作者 | 秦芝 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-10-29 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.imp.cas.cn/handle/113462/4985] ![]() |
专题 | 近代物理研究所_近代物理研究所知识存储(2010之前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 秦芝,郭俊盛,甘再国. 分子镀法制备厚镅(~(241,243)Am)靶[J]. 同位素,2000,2000(04):209-214. |
APA | 秦芝,郭俊盛,甘再国.(2000).分子镀法制备厚镅(~(241,243)Am)靶.同位素,2000(04),209-214. |
MLA | 秦芝,郭俊盛,甘再国."分子镀法制备厚镅(~(241,243)Am)靶".同位素 2000.04(2000):209-214. |
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