分子镀法制备厚镅(~(241,243)Am)靶
秦芝,郭俊盛,甘再国
刊名同位素
2000-11-20
卷号2000期号:04页码:209-214
关键词分子镀 厚镅靶 ~(241 243)Am
通讯作者秦芝
语种中文
公开日期2010-10-29
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.imp.cas.cn/handle/113462/4985]  
专题近代物理研究所_近代物理研究所知识存储(2010之前)
推荐引用方式
GB/T 7714
秦芝,郭俊盛,甘再国. 分子镀法制备厚镅(~(241,243)Am)靶[J]. 同位素,2000,2000(04):209-214.
APA 秦芝,郭俊盛,甘再国.(2000).分子镀法制备厚镅(~(241,243)Am)靶.同位素,2000(04),209-214.
MLA 秦芝,郭俊盛,甘再国."分子镀法制备厚镅(~(241,243)Am)靶".同位素 2000.04(2000):209-214.
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