固态氢靶系统和使用它的激光离子源 | |
孙良亭![]() | |
2018-09-07 | |
著作权人 | 中国科学院近代物理研究所 |
专利号 | CN108511314A |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明提供了固态氢靶系统及使用它的激光离子源,该固态氢靶系统包括:气体固化基座;气体固化坑,其作为冷冻靶位于气体固化基座的中央部;吸附罩,其围绕着气体固化基座,且该吸附罩的内表面粘贴有活性炭;其中,在固态氢靶系统所在的真空腔室为基础真空度的状态下,当从正对着气体固化坑的喷嘴即氢气出气口喷出预冷的氢气,该氢气立刻在冷冻靶凝结沉积而形成固体氢靶,对固态氢靶的靶面进行激光打靶,所气化的氢气由活性炭快速吸收,由此,有效维持了真空腔室的基础真空度,保证了激光打靶重复率,而使质子产生稳定性提高。 |
公开日期 | 2018-09-07 |
申请日期 | 2018-03-23 |
状态 | 实质审查 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://119.78.100.186/handle/113462/60693] ![]() |
专题 | 中国科学院近代物理研究所 |
作者单位 | 中国科学院近代物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙良亭,赵环昱,沈叮叮,等. 固态氢靶系统和使用它的激光离子源. CN108511314A. 2018-09-07. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论