超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统

	超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统
	游志明; 何源; 熊平然; 郭浩; 李璐
	2018-05-11
著作权人	中国科学院近代物理研究所
专利号	CN207347661U
国家	中国
文献子类	实用新型
英文摘要	本实用新型涉及离子加速器超导腔加工技术领域，尤其是涉及一种超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统。其特点是包括混酸槽，混酸槽上端通过管路与制冷机组相连，混酸槽内设置有热交换器，混酸槽下端通过管路与酸液输送泵相连，酸液输送泵通过管路与过滤器相连，过滤器通过管路与超导腔下端和超纯水水泵相连，超纯水水泵通过管路与超纯水水箱相连，超导腔上端通过管路分别与混酸槽上端和观察窗相连，高纯氮气罐通过管路与混酸槽与超导腔之间的管路相连；其通过采用计算机对酸液的流量、流速、温度、压力和时间进行严格控制，可以实现多型号超导腔的化学缓冲抛光。而且具有很强的抗腐蚀性、高度的安全性、可靠性、可控性和易操作性。
公开日期	2018-05-11
申请日期	2017-10-25
状态	授权
内容类型	专利
源URL	[http://119.78.100.186/handle/113462/60574]
专题	中国科学院近代物理研究所
作者单位	中国科学院近代物理研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	游志明,何源,熊平然,等. 超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统. CN207347661U. 2018-05-11.