超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统 | |
游志明![]() ![]() ![]() ![]() | |
2018-05-11 | |
著作权人 | 中国科学院近代物理研究所 |
专利号 | CN207347661U |
国家 | 中国 |
文献子类 | 实用新型 |
英文摘要 | 本实用新型涉及离子加速器超导腔加工技术领域,尤其是涉及一种超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统。其特点是包括混酸槽,混酸槽上端通过管路与制冷机组相连,混酸槽内设置有热交换器,混酸槽下端通过管路与酸液输送泵相连,酸液输送泵通过管路与过滤器相连,过滤器通过管路与超导腔下端和超纯水水泵相连,超纯水水泵通过管路与超纯水水箱相连,超导腔上端通过管路分别与混酸槽上端和观察窗相连,高纯氮气罐通过管路与混酸槽与超导腔之间的管路相连;其通过采用计算机对酸液的流量、流速、温度、压力和时间进行严格控制,可以实现多型号超导腔的化学缓冲抛光。而且具有很强的抗腐蚀性、高度的安全性、可靠性、可控性和易操作性。 |
公开日期 | 2018-05-11 |
申请日期 | 2017-10-25 |
状态 | 授权 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://119.78.100.186/handle/113462/60574] ![]() |
专题 | 中国科学院近代物理研究所 |
作者单位 | 中国科学院近代物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 游志明,何源,熊平然,等. 超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统. CN207347661U. 2018-05-11. |
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