去湿过程中后退三相接触线的纳米尺度图景 | |
邓亚骏 ; 于嘉鹏 ; 陈磊 ; 王昊 | |
2015 | |
关键词 | 三相接触线 部分浸润 去湿 微观接触角 残留膜 |
英文摘要 | 三相接触线在多相系统中起着关键作用,几十年来源自不同学科背景的各种理论被相继提出以理解其基本物理图像。然而由于缺乏实验支持,争论持续发散。本文利用轻敲模式原子力显微镜(TM-AFM)测量非挥发性液体在低速下(<50 nm/s)去湿时后退接触线附近的纳米级液膜形貌。结果表明绝大多数液膜形貌具有很好的线性,也即微观接触角θm与宏观接触角相等。θm随着接触线后退速度增大而减小,从而证明在理论建模中广泛采用的恒定微观接触角的假设不正确,并且以此可解释以往实验中对应于宏观沉积膜(macroscopic deposition film)的临界速度降低的现象。进一步发现,接触线退却时会留下纳米级厚度的微观残...; 中国化工学会; 9 |
会议录 | 2015年中国化工学会年会
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语种 | 中文 |
内容类型 | 会议论文 |
源URL | [http://ir.pku.edu.cn/handle/20.500.11897/456071] ![]() |
专题 | 工学院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 邓亚骏,于嘉鹏,陈磊,等. 去湿过程中后退三相接触线的纳米尺度图景[C]. 见:. |
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