氮化铝薄膜的原子层淀积制备及应用

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	氮化铝薄膜的原子层淀积制备及应用
	陈曜 ; 冯俊波 ; 周治平 ; 于军
刊名	华中科技大学学报. 自然科学版
	2009
关键词	氮化铝原子层淀积保型性粗糙度环形光子晶体器件
英文摘要	以三甲基铝(TMA)和氨气(NH_3)为源,在原子层淀积设备上实现了氮化铝薄膜的制备.通过扫描电子显微镜、X射线能谱仪和原子力显微镜对氮化铝薄膜的生长速率、成分和粗糙度进行了分析,优化了薄膜淀积工艺.以每周期单分子层的生长模式进行氮化铝薄膜淀积,淀积速率为每周期0.205 nm,厚度为61 nm的薄膜粗糙度为0.69 nm.利用原子层淀积氮化铝薄膜的保型性,通过nm级薄膜厚度的控制,制备了复杂的环形光子晶体器件,其工艺精度高达50 nm.; 国家重点基础研究发展计划预研项目,国家自然科学基金; 中文核心期刊要目总览(PKU); 中国科技核心期刊(ISTIC); 中国科学引文数据库(CSCD); 7; 35-37,41; 37
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.pku.edu.cn/handle/20.500.11897/423292]
专题	信息科学技术学院
推荐引用方式 GB/T 7714	陈曜,冯俊波,周治平,等. 氮化铝薄膜的原子层淀积制备及应用[J]. 华中科技大学学报. 自然科学版,2009.
APA	陈曜,冯俊波,周治平,&于军.(2009).氮化铝薄膜的原子层淀积制备及应用.华中科技大学学报. 自然科学版.
MLA	陈曜,et al."氮化铝薄膜的原子层淀积制备及应用".华中科技大学学报. 自然科学版 (2009).