聚酰亚胺薄膜工艺及其在MEMS中的应用 | |
耿小宝 ; 张海霞 ; 唐观荣 ; 田大宇 ; 李素兰 ; 张国炳 | |
2007 | |
关键词 | 聚酰亚胺薄膜 工艺流程 刻蚀工艺 性能评价 微机电系统 |
英文摘要 | 介绍了聚酰亚胺薄膜的制备工艺,研究了薄膜的刻蚀特性,发现湿法腐蚀得到的聚酰亚胺薄膜图形受最小尺寸的限制。对于O2等离子刻蚀,改变参教得到了刻蚀速率随O2流量和功率的变化曲线;对于RIE干法刻蚀,通过两次测量得到了更加精确的刻蚀速率。测量了薄膜的应力特性、硬度、杨氏模量及化学试剂对其的腐蚀性质。聚酰亚胺薄膜在SiC MEMS加工中作为牺牲层,重点研究了退火对释放后结构应力的影响,找到了在材料允许温度范围内的最佳退火条件。; 0 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 其他 |
源URL | [http://ir.pku.edu.cn/handle/20.500.11897/282036] |
专题 | 信息科学技术学院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 耿小宝,张海霞,唐观荣,等. 聚酰亚胺薄膜工艺及其在MEMS中的应用. 2007-01-01. |
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