二氧化硅纳米颗粒的反应离子刻蚀及其在硅纳米针尖制备中的应用

doi:10.3969/j.issn.1672-6030.2009.06.007

CORC > 北京大学 > 信息科学技术学院

	二氧化硅纳米颗粒的反应离子刻蚀及其在硅纳米针尖制备中的应用; RIE of SiO_2 Nanoparticles and Its Application in Preparation of Silicon Nanopillar Array
	赵瑜 ; 江洵 ; 李成垚 ; 王玮 ; 高旻 ; 李志宏
刊名	纳米技术与精密工程
	2009
关键词	纳米颗粒单层膜纳米针尖阵列反应离子刻蚀场发射效应 nanoparticle monolayer nanopillar array reactive ion etching(RIE) field emission effect
DOI	10.3969/j.issn.1672-6030.2009.06.007
英文摘要	系统地研究了硅衬底上二氧化硅纳米颗粒的反应离子刻蚀(RIE)过程,并在此基础上制备了可用于场发射的硅纳米针尖阵列.首先,采用改进的蒸发法在硅衬底上实现二氧化硅纳米颗粒的单层密排结构,再采用典型的刻蚀二氧化硅的RIE技术同时刻蚀硅衬底和二氧化硅纳米颗粒,在对纳米颗粒尺寸随刻蚀进行而改变的电镜照片分析的基础上,获得了相应的二氧化硅纳米颗粒刻蚀模型,计算得到横向和纵向的刻蚀速率;当刻蚀后的二氧化硅纳米颗粒从衬底上脱落后,进一步对硅衬底的刻蚀可以得到锐利的硅纳米针尖阵列,初步的实验结果表明,所制备的硅纳米针尖具有较好的场发射特性.; 重点实验室基金; 中国科技核心期刊(ISTIC); 中国科学引文数据库(CSCD); 0; 6; 515-518; 7
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.pku.edu.cn/handle/20.500.11897/270627]
专题	信息科学技术学院
推荐引用方式 GB/T 7714	赵瑜,江洵,李成垚,等. 二氧化硅纳米颗粒的反应离子刻蚀及其在硅纳米针尖制备中的应用, RIE of SiO_2 Nanoparticles and Its Application in Preparation of Silicon Nanopillar Array[J]. 纳米技术与精密工程,2009.
APA	赵瑜,江洵,李成垚,王玮,高旻,&李志宏.(2009).二氧化硅纳米颗粒的反应离子刻蚀及其在硅纳米针尖制备中的应用.纳米技术与精密工程.
MLA	赵瑜,et al."二氧化硅纳米颗粒的反应离子刻蚀及其在硅纳米针尖制备中的应用".纳米技术与精密工程 (2009).