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多晶硅集成高温压力传感器研究; Research on Poly-Silicon Integrated Pressure Sensor for High Temperature
张威 ; 王阳元
刊名电子学报
2003
关键词集成 多晶硅 压力传感器 CMOS
DOI10.3321/j.issn:0372-2112.2003.11.033
英文摘要高温压力传感器因其特殊的应用环境而日益受到人们的重视.一些特殊的材料如SiC 、SOI等可以用来制作高温压力传感器,但是由于成本较高或加工难度大等原因,尚未得到广泛应用.本文提出了一种新型的高温压力传感器,采用多晶硅作为压敏电阻,同时采用新的工艺措施与全耗尽CMOS放大电路集成在一起,将输出电压转换为0~+5V的输出信号.通过模拟与投片实验,得到了优化的多晶硅注入浓度,从而使其压阻温度系数在-40℃~180℃范围内接近于零.; 中文核心期刊要目总览(PKU); 中国科学引文数据库(CSCD); 0; 11; 1736-1738; 31
语种中文
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.pku.edu.cn/handle/20.500.11897/185625]  
专题信息科学技术学院
推荐引用方式
GB/T 7714
张威,王阳元. 多晶硅集成高温压力传感器研究, Research on Poly-Silicon Integrated Pressure Sensor for High Temperature[J]. 电子学报,2003.
APA 张威,&王阳元.(2003).多晶硅集成高温压力传感器研究.电子学报.
MLA 张威,et al."多晶硅集成高温压力传感器研究".电子学报 (2003).
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