反应蒸发制备的TiN薄膜特性研究

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	反应蒸发制备的TiN薄膜特性研究
	高玉芝 ; 张录 ; 张利春
刊名	北京大学学报自然科学版
	1989
关键词	反应蒸发扩散势垒氮化钛
英文摘要	本文利用反应蒸发方法在NH_3气氛中淀积了TiN薄膜。俄歇电子谱(AES)、X射线衍射技术和电特性测量等方法分别用来分析了在不同NH_3气压和不同衬底温度条件下所淀积的TiN薄膜的组分、晶体结构和电特性。Al/TiN/Si金属化系统经550℃、30分钟退火,卢瑟福背散射研究结果表明,TiN是一种有效的扩散势垒材料。; 中国科学引文数据库(CSCD); 0; 03; 261-268
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.pku.edu.cn/handle/20.500.11897/23483]
专题	信息科学技术学院
推荐引用方式 GB/T 7714	高玉芝,张录,张利春. 反应蒸发制备的TiN薄膜特性研究[J]. 北京大学学报自然科学版,1989.
APA	高玉芝,张录,&张利春.(1989).反应蒸发制备的TiN薄膜特性研究.北京大学学报自然科学版.
MLA	高玉芝,et al."反应蒸发制备的TiN薄膜特性研究".北京大学学报自然科学版 (1989).