| 多壁碳纳米管薄膜掺钾后场发射特性研究 | |
| 孙建平 ; 刘惟敏 ; 刘云圻 ; 薛增泉 | |
| 2003 | |
| 关键词 | 碳纳米管薄膜 发射特性 场发射 平板显示器件 开启电场 碱金属原子 后场 电荷转移 开口端 Fowler |
| 英文摘要 | 由于碳纳米管在场发射平板显示器件中的巨大应用潜力,对取向多壁碳纳米管薄膜场发射特性的研究,近年来受到极大重视。由于碱金属(如Cs,K等)具有较低的逸出功,传统的场发射材料通过碱金属处理,可能降低有效逸出功,提高场电子发射能力。实验表明,同能进入石墨和C_(60)一样,碱金属原子特别是K原; 0 |
| 语种 | 中文 |
| 内容类型 | 其他 |
| 源URL | [http://ir.pku.edu.cn/handle/20.500.11897/22450]  |
| 专题 | 信息科学技术学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙建平,刘惟敏,刘云圻,等. 多壁碳纳米管薄膜掺钾后场发射特性研究. 2003-01-01. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论