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	WO↓3在TiO↓2/γ-Al↓2O↓3和在TiO↓2/SiO↓2复合载体表面的分散状态和最大分散量
	邓存 ; 陈巧平 ; 刘英骏
刊名	分子催化
	1994
关键词	WO↓3/（TiO↓2/γ-Al↓2O↓3）催化剂 WO↓3/（TiO↓2/SiO↓2）催化剂 表面单层分散 TiCl↓4气相流动吸附法
英文摘要	省市基金; 中国科学引文数据库(CSCD); 5; 387; 8
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.pku.edu.cn/handle/20.500.11897/430114]
专题	化学与分子工程学院
推荐引用方式 GB/T 7714	邓存,陈巧平,刘英骏. WO↓3在TiO↓2/γ-Al↓2O↓3和在TiO↓2/SiO↓2复合载体表面的分散状态和最大分散量[J]. 分子催化,1994.
APA	邓存,陈巧平,&刘英骏.(1994).WO↓3在TiO↓2/γ-Al↓2O↓3和在TiO↓2/SiO↓2复合载体表面的分散状态和最大分散量.分子催化.
MLA	邓存,et al."WO↓3在TiO↓2/γ-Al↓2O↓3和在TiO↓2/SiO↓2复合载体表面的分散状态和最大分散量".分子催化 (1994).

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