| Mg-Ti-Pd三层结构薄膜在室温下的优良吸放氢性质研究 | |
| 辛恭标 ; 杨鋆智 ; 王崇云 ; 郑捷 ; 李星国 | |
| 2012 | |
| 关键词 | 储氢材料 Mg基薄膜 Ti夹层 室温 |
| 英文摘要 | 通过磁控溅射方法,制备了一系列含有不同厚度Ti夹层的Mg-Ti-Pd三层薄膜.这种结构的薄膜可以在室温条件下可逆的吸放氢.我们系统的研究了Mg-Ti-Pd三层薄膜的结构与性质之间的关系.研究结果表明,通过添加Ti夹层,Mg-Pd薄膜的储氢性质可以得到很大程度的改善.Ti夹层的厚度也对Mg-Ti-Pd薄膜的储氢性质具有很大的影响.当Ti夹层的厚度为1nm时,薄膜的吸放氢性质最好.Ti夹层的添加可以显著改善Mg-Pd薄膜储氢性质的原因可以归结于几个方面：阻止Mg-Pd合金化,催化H2分子的解离和提供大量成核位点.这些研究成果可以为高性能金属间化合物储氢材料的发展与薄膜功能器件的设计提供基础.; 0 |
| 语种 | 中文 |
| 内容类型 | 其他 |
| 源URL | [http://ir.pku.edu.cn/handle/20.500.11897/256849]  |
| 专题 | 化学与分子工程学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 辛恭标,杨鋆智,王崇云,等. Mg-Ti-Pd三层结构薄膜在室温下的优良吸放氢性质研究. 2012-01-01. |
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