| 低浓度氟的测定——直接电位法几种测量技术的比较 | |
| 华惠珍 ; 栾甡 ; 尹红锋 ; 房德敏 ; 马志和 | |
| 1986 | |
| 关键词 | 含氟量 氟离子选择电极 能斯特响应 离子强度 测量技术 六次甲基四胺 电位法 调节液 氟含量 缓冲液 |
| 英文摘要 | 防治龋齿在国内外日益受到重视。为适应预防龋齿研究中测定含氟量为0.0Xppm的HClO_4浸牙液,本文介绍一种新的总离子强度调节液(TISAB),以六次甲基四胺作为pH缓冲液,以KNO_3调节离子强度,氟离子选择电极的能斯特响应下限至0.02ppm。结合采用pH4.3的HCl作为电极的清洗液,测定的结果稳定重现。测定含氟量为0.X-Xppm的茶水及饮用水; 0; 08; 602-605 |
| 语种 | 中文 |
| 出处 | 知网 |
| 出版者 | 分析化学 |
| 内容类型 | 其他 |
| 源URL | [http://hdl.handle.net/20.500.11897/78981]  |
| 专题 | 化学与分子工程学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 华惠珍,栾甡,尹红锋,等. 低浓度氟的测定——直接电位法几种测量技术的比较. 1986-01-01. |
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