磁控溅射法制备极紫外6.8~11.0 nm波段Mo/B_4C横向梯度多层膜

	磁控溅射法制备极紫外6.8~11.0 nm波段Mo/B_4C横向梯度多层膜
	朱京涛; 李淼; 朱圣明; 张嘉怡; 冀斌; 崔明启
刊名	强激光与粒子束
	2018
卷号	30 期号:6 页码:61001
关键词	极紫外横向梯度多层膜 Mo/B₄C 磁控溅射同步辐射
ISSN号	1001-4322
其他题名	Laterally graded periodic Mo/B_4C multilayer forextreme ultraviolet wavelength of 6.8-11.0 nm
文献子类	Article
英文摘要	用直流磁控溅射法结合掩模板控制膜厚的方法在Si衬底上制备了工作于6.8～11.0nm波段的[Mo/B4C]60横向梯度多层膜。利用X射线掠入射反射测试以及同步辐射反射率测试对梯度多层膜的结构及性能进行了测试。X射线掠入射反射测试结果表明,多层膜周期厚度沿着长轴方向从4.39nm逐渐增加到7.82nm,周期厚度平均梯度为0.054nm/mm。对横向梯度多层膜沿长轴方向每隔5mm进行了一次同步辐射反射率测试,结果显示,横向梯度多层膜在45°入射角下的反射率约为10%,反射峰的半高全宽介于0.13nm到0.31nm之间。
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:6250281
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/286458]
专题	高能物理研究所_多学科研究中心
作者单位	中国科学院高能物理研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	朱京涛,李淼,朱圣明,等. 磁控溅射法制备极紫外6.8~11.0 nm波段Mo/B_4C横向梯度多层膜[J]. 强激光与粒子束,2018,30(6):61001.
APA	朱京涛,李淼,朱圣明,张嘉怡,冀斌,&崔明启.(2018).磁控溅射法制备极紫外6.8~11.0 nm波段Mo/B_4C横向梯度多层膜.强激光与粒子束,30(6),61001.
MLA	朱京涛,et al."磁控溅射法制备极紫外6.8~11.0 nm波段Mo/B_4C横向梯度多层膜".强激光与粒子束 30.6(2018):61001.