CORC  > 上海大学
Cu在Pt(111)面上电结晶的成膜过程研究
印仁和[1]; 曹为民[2]; 施文广[3]; 孙洁林[4]; 毛秉伟[5]; 孙世刚[6]
刊名金属学报
1998
卷号34页码:892
关键词欠电位沉积 电化学扫描隧道显微镜 反射电子显微镜 Stranski-Krastanov生长机理
ISSN号0412-1961
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内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2425779
专题上海大学
作者单位[1] 上海大学化学系, 上海 201800, 中国[2] 上海大学化学系, 上海 中国[3] 上海大学化学系, 上海 中国[4] 中科院上海原子核所, 上海 中国[5] 厦门大学, 固体表面物理化学国家重点实验室, 厦门, 福建 361005, 中国[6] 厦门大学, 固体表面物理化学国家重点实验室, 厦门, 福建 中国
推荐引用方式
GB/T 7714
印仁和[1],曹为民[2],施文广[3],等. Cu在Pt(111)面上电结晶的成膜过程研究[J]. 金属学报,1998,34:892.
APA 印仁和[1],曹为民[2],施文广[3],孙洁林[4],毛秉伟[5],&孙世刚[6].(1998).Cu在Pt(111)面上电结晶的成膜过程研究.金属学报,34,892.
MLA 印仁和[1],et al."Cu在Pt(111)面上电结晶的成膜过程研究".金属学报 34(1998):892.
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