高真空强静电场下等规聚丙稀薄膜微晶生长形态研究 | |
肖学山[1]; 董远达[2]; 乔秀颖[3]; 莫志深[4]; 王庆[5]; 王献红[6]; 徐晖[7] | |
刊名 | 上海大学学报(自然科学版)
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2000 | |
卷号 | 6页码:468-470 |
关键词 | 静电场 等规聚丙稀薄膜 球晶 树枝晶 |
ISSN号 | 1007-2861 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2422713 |
专题 | 上海大学 |
作者单位 | 1.上海大学材料科学与工程学院上海 20007中国科学院长春应用化学研究所长春 130022 2.上海大学材料科学与工程学院上海 200072 3.中国科学院长春应用化学研究所长春 130022 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 肖学山[1],董远达[2],乔秀颖[3],等. 高真空强静电场下等规聚丙稀薄膜微晶生长形态研究[J]. 上海大学学报(自然科学版),2000,6:468-470. |
APA | 肖学山[1].,董远达[2].,乔秀颖[3].,莫志深[4].,王庆[5].,...&徐晖[7].(2000).高真空强静电场下等规聚丙稀薄膜微晶生长形态研究.上海大学学报(自然科学版),6,468-470. |
MLA | 肖学山[1],et al."高真空强静电场下等规聚丙稀薄膜微晶生长形态研究".上海大学学报(自然科学版) 6(2000):468-470. |
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