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高真空强静电场下半熔融态处理压电聚合物--PA11/PVDF共混物晶体结构和显微形态研究
肖学山[1]; 张庆新[2]; 董远达[3]; 莫志深[4]; 王庆[5]; 徐晖[6]
刊名功能高分子学报
2000
卷号13页码:401-406
关键词静电场 晶体结构 形态
ISSN号1008-9357
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内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2422056
专题上海大学
作者单位1.上海大学材料研究所, 上海 200072, 中国
2.中科院长春应用化学所, 长春, 吉林 130022, 中国
推荐引用方式
GB/T 7714
肖学山[1],张庆新[2],董远达[3],等. 高真空强静电场下半熔融态处理压电聚合物--PA11/PVDF共混物晶体结构和显微形态研究[J]. 功能高分子学报,2000,13:401-406.
APA 肖学山[1],张庆新[2],董远达[3],莫志深[4],王庆[5],&徐晖[6].(2000).高真空强静电场下半熔融态处理压电聚合物--PA11/PVDF共混物晶体结构和显微形态研究.功能高分子学报,13,401-406.
MLA 肖学山[1],et al."高真空强静电场下半熔融态处理压电聚合物--PA11/PVDF共混物晶体结构和显微形态研究".功能高分子学报 13(2000):401-406.
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