高真空强静电场下半熔融态处理压电聚合物--PA11/PVDF共混物晶体结构和显微形态研究 | |
肖学山[1]; 张庆新[2]; 董远达[3]; 莫志深[4]; 王庆[5]; 徐晖[6] | |
刊名 | 功能高分子学报
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2000 | |
卷号 | 13页码:401-406 |
关键词 | 静电场 晶体结构 形态 |
ISSN号 | 1008-9357 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2422056 |
专题 | 上海大学 |
作者单位 | 1.上海大学材料研究所, 上海 200072, 中国 2.中科院长春应用化学所, 长春, 吉林 130022, 中国 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 肖学山[1],张庆新[2],董远达[3],等. 高真空强静电场下半熔融态处理压电聚合物--PA11/PVDF共混物晶体结构和显微形态研究[J]. 功能高分子学报,2000,13:401-406. |
APA | 肖学山[1],张庆新[2],董远达[3],莫志深[4],王庆[5],&徐晖[6].(2000).高真空强静电场下半熔融态处理压电聚合物--PA11/PVDF共混物晶体结构和显微形态研究.功能高分子学报,13,401-406. |
MLA | 肖学山[1],et al."高真空强静电场下半熔融态处理压电聚合物--PA11/PVDF共混物晶体结构和显微形态研究".功能高分子学报 13(2000):401-406. |
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