电沉积技术制备Ni-纳米SiO2复合镀层的研究 | |
桑付明[1]; 成旦红[2]; 曹铁华[3]; 袁蓉[4]; 徐伟一[5] | |
刊名 | 电镀与精饰
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2004 | |
卷号 | 26页码:5-8,19 |
关键词 | 纳米材料 镍-纳米SiO2复合镀层 电沉积 |
ISSN号 | 1001-3849 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2405453 |
专题 | 上海大学 |
作者单位 | [1]上海大学,理学院,上海,200436[2]上海大学,环境与化学工程学院,上海,200072[3]上海大学,环境与化学工程学院,上海,200072[4]上海大学,环境与化学工程学院,上海,200072[5]上海大学,环境与化学工程学院,上海,200072 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 桑付明[1],成旦红[2],曹铁华[3],等. 电沉积技术制备Ni-纳米SiO2复合镀层的研究[J]. 电镀与精饰,2004,26:5-8,19. |
APA | 桑付明[1],成旦红[2],曹铁华[3],袁蓉[4],&徐伟一[5].(2004).电沉积技术制备Ni-纳米SiO2复合镀层的研究.电镀与精饰,26,5-8,19. |
MLA | 桑付明[1],et al."电沉积技术制备Ni-纳米SiO2复合镀层的研究".电镀与精饰 26(2004):5-8,19. |
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