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	电沉积技术制备Ni-纳米SiO2复合镀层的研究
	桑付明[1]; 成旦红[2]; 曹铁华[3]; 袁蓉[4]; 徐伟一[5]
刊名	电镀与精饰
	2004
卷号	26页码:5-8,19
关键词	纳米材料 镍-纳米SiO2复合镀层 电沉积
ISSN号	1001-3849
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内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2405453
专题	上海大学
作者单位	[1]上海大学,理学院,上海,200436[2]上海大学,环境与化学工程学院,上海,200072[3]上海大学,环境与化学工程学院,上海,200072[4]上海大学,环境与化学工程学院,上海,200072[5]上海大学,环境与化学工程学院,上海,200072
推荐引用方式 GB/T 7714	桑付明[1],成旦红[2],曹铁华[3],等. 电沉积技术制备Ni-纳米SiO2复合镀层的研究[J]. 电镀与精饰,2004,26:5-8,19.
APA	桑付明[1],成旦红[2],曹铁华[3],袁蓉[4],&徐伟一[5].(2004).电沉积技术制备Ni-纳米SiO2复合镀层的研究.电镀与精饰,26,5-8,19.
MLA	桑付明[1],et al."电沉积技术制备Ni-纳米SiO2复合镀层的研究".电镀与精饰 26(2004):5-8,19.

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