流动槽滴入法电结晶制备铜钴纳米多层膜 | |
曹为民[1]; 石新红[2]; 印仁和[3]; 朱律均[4]; 胡滢[5] | |
刊名 | 功能材料与器件学报 |
2007 | |
卷号 | 13页码:399-402 |
关键词 | 电结晶 流动槽滴入法 Cu/Co纳米多层膜 X射线衍射 |
ISSN号 | 1007-4252 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2388473 |
专题 | 上海大学 |
作者单位 | [1] 上海大学理学院化学系, 上海 200444, 中国[2] 上海大学理学院化学系, 上海 200444, 中国[3] 上海大学理学院化学系, 上海 200444, 中国[4] 上海大学理学院化学系, 上海 200444, 中国[5] 上海大学理学院化学系, 上海 200444, 中国 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 曹为民[1],石新红[2],印仁和[3],等. 流动槽滴入法电结晶制备铜钴纳米多层膜[J]. 功能材料与器件学报,2007,13:399-402. |
APA | 曹为民[1],石新红[2],印仁和[3],朱律均[4],&胡滢[5].(2007).流动槽滴入法电结晶制备铜钴纳米多层膜.功能材料与器件学报,13,399-402. |
MLA | 曹为民[1],et al."流动槽滴入法电结晶制备铜钴纳米多层膜".功能材料与器件学报 13(2007):399-402. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论