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	低粗糙度金刚石薄膜的制备及其光学性能的表征
	施凌云[1]; 王林军[2]; 蒋丽雯[3]; 刘健敏[4]; 夏义本[5]
刊名	上海大学学报（自然科学版）
	2007
卷号	13页码:320-324
关键词	金刚石薄膜 碳源浓度 表面粗糙度 光学性质
ISSN号	1007-2861
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内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2385730
专题	上海大学
作者单位	[1] 上海大学材料科学与工程学院, 上海 200072, 中国[2] 上海大学材料科学与工程学院, 上海 200072, 中国[3] 上海大学材料科学与工程学院, 上海 200072, 中国[4] 上海大学材料科学与工程学院, 上海 200072, 中国[5] 上海大学材料科学与工程学院, 上海 200072, 中国
推荐引用方式 GB/T 7714	施凌云[1],王林军[2],蒋丽雯[3],等. 低粗糙度金刚石薄膜的制备及其光学性能的表征[J]. 上海大学学报（自然科学版）,2007,13:320-324.
APA	施凌云[1],王林军[2],蒋丽雯[3],刘健敏[4],&夏义本[5].(2007).低粗糙度金刚石薄膜的制备及其光学性能的表征.上海大学学报（自然科学版）,13,320-324.
MLA	施凌云[1],et al."低粗糙度金刚石薄膜的制备及其光学性能的表征".上海大学学报（自然科学版） 13(2007):320-324.

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