植酸自组装膜对白铜缓蚀作用的光电化学研究 | |
徐群杰[1]; 万宗跃[2]; 费琳[3]; 印仁和[4]; 周小金[5] | |
2008 | |
会议名称 | 2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会 |
会议日期 | 2008-07-01 |
关键词 | 植酸 自组装膜 白铜 光电化学 腐蚀 |
页码 | 167-169 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 会议论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2343331 |
专题 | 上海大学 |
作者单位 | 1.[1]上海电力学院能源与环境工程学院上海高校电力腐蚀控制与应用电化学重点实验室,上海,200090[2]上海电力学院能源与环境工程学院上海高校电力腐蚀控制与应用电化学重点实验室,上海,200090 2.上海大学理学院化学系上海,200444[3]上海电力学院能源与环境工程学院上海高校电力腐蚀控制与应用电化学重点实验室,上海,200090[4]上海大学理学院化学系上海,200444[5]上海电力学院能源与环境工程学院上海高校电力腐蚀控制与应用电化学重点实验室,上海,200090 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 徐群杰[1],万宗跃[2],费琳[3],等. 植酸自组装膜对白铜缓蚀作用的光电化学研究[C]. 见:2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会. 2008-07-01. |
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