| 等离子平板显示中冷阴极纳米金刚石膜的制备 | |
| 祝雪丰[1]; 王林军[2]; 胡广[3]; 刘建敏[4]; 黄建[5]; 徐金勇[6]; 夏义本[7] | |
| 刊名 | 电子器件
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| 2008 | |
| 卷号 | 31页码:72-76 |
| 关键词 | 纳米金刚石膜 高γ 透过率 电子辅助-热丝化学气相沉积法(EA-HFCVD) nano-crystalline diamond film high γ transmittance EA-HFCVD |
| ISSN号 | 1005-9490 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2343019 |
| 专题 | 上海大学 |
| 作者单位 | 上海大学,材料科学与工程,上海,200072 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 祝雪丰[1],王林军[2],胡广[3],等. 等离子平板显示中冷阴极纳米金刚石膜的制备[J]. 电子器件,2008,31:72-76. |
| APA | 祝雪丰[1].,王林军[2].,胡广[3].,刘建敏[4].,黄建[5].,...&夏义本[7].(2008).等离子平板显示中冷阴极纳米金刚石膜的制备.电子器件,31,72-76. |
| MLA | 祝雪丰[1],et al."等离子平板显示中冷阴极纳米金刚石膜的制备".电子器件 31(2008):72-76. |
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