| 柔性金属衬底上动态溅射沉积电子薄膜用类钙钛矿氧化物缓冲层 | |
| 蔡传兵[1]; 鲁玉明[2]; 刘志勇[3]; 范峰[4]; 蔡增辉[5]; 应利良[6] | |
| 2010 | |
| 会议名称 | AVT2010国际学术会议——真空技术在光电材料与器件中的应用 |
| 会议日期 | 2010-08-01 |
| 页码 | 79-88 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 会议论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2315517 |
| 专题 | 上海大学 |
| 作者单位 | [1]上海大学超导与应用技术研究中心,上海市上大路99号,上海200444[2]上海大学超导与应用技术研究中心,上海市上大路99号,上海200444[3]上海大学超导与应用技术研究中心,上海市上大路99号,上海200444[4]上海大学超导与应用技术研究中心,上海市上大路99号,上海200444[5]上海大学超导与应用技术研究中心,上海市上大路99号,上海200444[6]上海大学超导与应用技术研究中心,上海市上大路99号,上海200444 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 蔡传兵[1],鲁玉明[2],刘志勇[3],等. 柔性金属衬底上动态溅射沉积电子薄膜用类钙钛矿氧化物缓冲层[C]. 见:AVT2010国际学术会议——真空技术在光电材料与器件中的应用. 2010-08-01. |
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