基于PECVD SiNx绝缘层和廉价的Cu为电极的并五苯薄膜晶体管性能研究 | |
李俊[1]; 蒋雪茵[2]; 张小文[3]; 张良[4]; 张浩[5]; 林华平[6]; 张志林[7] | |
2010 | |
会议名称 | 2010中国平板显示学术会议 |
会议日期 | 2010-03-16 |
关键词 | 薄膜晶体管 绝缘层 转折特性曲线 表面形貌 |
页码 | 312-315 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 会议论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2310850 |
专题 | 上海大学 |
作者单位 | [1]上海大学材料科学与工程学院,上海 20180上海大学新型显示与技术及应用集成教育部重点实验室[2]上海大学材料科学与工程学院,上海 201800[3]上海大学材料科学与工程学院,上海 20180上海大学新型显示与技术及应用集成教育部重点实验室[4]上海大学材料科学与工程学院,上海 20180上海大学新型显示与技术及应用集成教育部重点实验室[5]上海大学新型显示与技术及应用集成教育部重点实验室[6]上海大学材料科学与工程学院,上海 201800[7]上海大学新型显示与技术及应用集成教育部重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李俊[1],蒋雪茵[2],张小文[3],等. 基于PECVD SiNx绝缘层和廉价的Cu为电极的并五苯薄膜晶体管性能研究[C]. 见:2010中国平板显示学术会议. 2010-03-16. |
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