| 原子级光滑表面的制造技术与机理研究 | |
| 潘国顺[1]; 雒建斌[2]; 路新春[3]; 郭丹[4]; 段芳莉[5]; 徐进[6]; 陈入领[7]; 张伟[8]; 胡元中[9] | |
| 刊名 | 数字制造科学
 |
| 2011 | |
| 页码 | 1-35 |
| 关键词 | 先进电子制造 化学机械抛光 纳米粒子行为 抛光液 材料去除机理 摩擦学 分子动力学模拟 非晶化相变 |
| ISSN号 | 1672-3236 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2309780 |
| 专题 | 上海大学 |
| 作者单位 | [1]100084北京市,清华大学摩擦学国家重点实验室[2]100084北京市,清华大学摩擦学国家重点实验室[3]100084北京市,清华大学摩擦学国家重点实验室[4]100084北京市,清华大学摩擦学国家重点实验室[5]400030重庆市,重庆大学机械传动国家重点实验室[6]100084北京市,清华大学摩擦学国家重点实验室[7]200444上海市,上海大学纳米中心[8]100084北京市,清华大学摩擦学国家重点实验室[9]100084北京市,清华大学摩擦学国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 潘国顺[1],雒建斌[2],路新春[3],等. 原子级光滑表面的制造技术与机理研究[J]. 数字制造科学,2011:1-35. |
| APA | 潘国顺[1].,雒建斌[2].,路新春[3].,郭丹[4].,段芳莉[5].,...&胡元中[9].(2011).原子级光滑表面的制造技术与机理研究.数字制造科学,1-35. |
| MLA | 潘国顺[1],et al."原子级光滑表面的制造技术与机理研究".数字制造科学 (2011):1-35. |
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