| 高强度铝合金微等离子体电解氧化陶瓷质膜层影响因素探讨 | |
| 苗景国[1]; 郝康达[2]; 卫中领[3]; 沈钰[4]; 陈秋荣[5]; 吴润[6] | |
| 2011 | |
| 会议名称 | 2011年全国电子电镀及表面处理学术交流会 |
| 会议日期 | 2011-11-20 |
| 关键词 | 高强度铝合金 微等离子体电解氧化 陶瓷质氧化膜层 |
| 页码 | 254-258 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 会议论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2301616 |
| 专题 | 上海大学 |
| 作者单位 | 1.材料与冶金学院,武汉科技大学,武汉430081,中国 2.材料微结构重点实验室,上海大学,上海 200444,中国 嘉兴轻合金技术工程中心,中国科学院,嘉兴 314051,中国 3.嘉兴轻合金技术工程中心,中国科学院,嘉兴 314051,中国 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 苗景国[1],郝康达[2],卫中领[3],等. 高强度铝合金微等离子体电解氧化陶瓷质膜层影响因素探讨[C]. 见:2011年全国电子电镀及表面处理学术交流会. 2011-11-20. |
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