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	磁控溅射制备的Er:Si共掺ZnO多层膜的PL特性的研究
	王啸[1]; 郑玲玲[2]; 蒋最敏[3]; 徐飞[4]; 马忠权[5]; 徐闰[6]; 普郁[7]; 李明珠[8]; 陆昉[9]
	2011
会议名称	2011年全国硅基光电子材料及器件研讨会
会议日期	2011-05-01
关键词	磁控溅射 Er：Si共掺ZnO多层膜 PL特性
页码	34-36
URL标识	查看原文
内容类型	会议论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2300898
专题	上海大学
作者单位	[1]复旦大学应用表面物理国家重点实验室,上海,200433[2]上海大学理学院物理系,上海大学-索朗光伏材料与器件R＆D实验室，上海,200444[3]复旦大学应用表面物理国家重点实验室,上海,200433[4]上海大学理学院物理系,上海大学-索朗光伏材料与器件R＆D实验室，上海,200444[5]上海大学理学院物理系,上海大学-索朗光伏材料与器件R＆D实验室，上海,200444[6]上海大学材料科学工程学院电子信息材料系，上海,200444[7]复旦大学应用表面物理国家重点实验室,上海,200433[8]复旦大学应用表面物理国家重点实验室,上海,200433[9]复旦大学应用表面物理国家重点实验室,上海,200433
推荐引用方式 GB/T 7714	王啸[1],郑玲玲[2],蒋最敏[3],等. 磁控溅射制备的Er:Si共掺ZnO多层膜的PL特性的研究[C]. 见:2011年全国硅基光电子材料及器件研讨会. 2011-05-01.

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