| NiW基底上金属氧化物缓冲层界面应力及其厚度效应 | |
| 范峰[1]; 鲁玉明[2]; 刘志勇[3]; 应利良[4]; 蔡传兵[5] | |
| 2011 | |
| 会议名称 | 第十一届全国超导学术研讨会暨超导发现100周年纪念大会 |
| 会议日期 | 2011-10-31 |
| 页码 | 77-77 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 会议论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2300871 |
| 专题 | 上海大学 |
| 作者单位 | [1]上海大学超导及应用技术研究中心,上海大学,上海200444,中国[2]上海大学超导及应用技术研究中心,上海大学,上海200444,中国[3]上海大学超导及应用技术研究中心,上海大学,上海200444,中国[4]信息功能材料国家重点实验室,中国科学院上海微系统与信息技术研究所,上海 200050,中国[5]上海大学超导及应用技术研究中心,上海大学,上海200444,中国 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 范峰[1],鲁玉明[2],刘志勇[3],等. NiW基底上金属氧化物缓冲层界面应力及其厚度效应[C]. 见:第十一届全国超导学术研讨会暨超导发现100周年纪念大会. 2011-10-31. |
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