| OLED用三氧化钨缓冲层的研究 | |
| 稻秀美[1]; 林华平[2]; 杨铭[3]; 张群[4] | |
| 刊名 | 复旦学报：自然科学版
 |
| 2012 | |
| 卷号 | 51页码:335-339 |
| 关键词 | 三氧化钨 掺钨氧化铟 有机电致发光器件 缓冲层 |
| ISSN号 | 0427-7104 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2298790 |
| 专题 | 上海大学 |
| 作者单位 | [1] 复旦大学材料科学系, 上海 200433, 中国[2] 上海大学材料科学系, 上海 200233, 中国[3] 复旦大学材料科学系, 上海 200433, 中国[4] 复旦大学材料科学系, 上海 200433, 中国 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 稻秀美[1],林华平[2],杨铭[3],等. OLED用三氧化钨缓冲层的研究[J]. 复旦学报：自然科学版,2012,51:335-339. |
| APA | 稻秀美[1],林华平[2],杨铭[3],&张群[4].(2012).OLED用三氧化钨缓冲层的研究.复旦学报：自然科学版,51,335-339. |
| MLA | 稻秀美[1],et al."OLED用三氧化钨缓冲层的研究".复旦学报：自然科学版 51(2012):335-339. |
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