| PVD制备TiAISiN涂层的研究进展 | |
| 彭笑[1]; 朱丽慧[2]; Vineet Kumar[3]; 刘一雄[4] | |
| 刊名 | 材料导报
 |
| 2014 | |
| 卷号 | 28页码:42 |
| 关键词 | 物理气相沉积 TiAISiN涂层 微观结构 力学性能 抗氧化性 热稳定性 |
| ISSN号 | 1005-023X |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2279430 |
| 专题 | 上海大学 |
| 作者单位 | 1.上海大学材料科学与工程学院, 上海 200072, 中国 2.Kennametal Inc.,Latrobe, PA, 15650, USA |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 彭笑[1],朱丽慧[2],Vineet Kumar[3],等. PVD制备TiAISiN涂层的研究进展[J]. 材料导报,2014,28:42. |
| APA | 彭笑[1],朱丽慧[2],Vineet Kumar[3],&刘一雄[4].(2014).PVD制备TiAISiN涂层的研究进展.材料导报,28,42. |
| MLA | 彭笑[1],et al."PVD制备TiAISiN涂层的研究进展".材料导报 28(2014):42. |
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