QQ客服 官方微博 反馈留言

	偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB_2基涂层结构及力学性能的影响
	李沛[1]; 谷文翠[2]; 钟庆东[3]; 贾丛丛[4]; 黄峰[5]
刊名	真空科学与技术学报
	2015
卷号	35页码:594-600
关键词	磁控溅射 TiB_2涂层 金属掺杂 断裂韧性 摩擦磨损
ISSN号	1672-7126
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2269789
专题	上海大学
作者单位	[1] 上海大学, 上海市省部共建高品质特殊钢治金与制备国家重点实验室, 上海 200012, 中国[2] 中国科学院宁波材料技术与工程研究所, 宁波, 浙江 315201, 中国[3] 上海大学, 上海市省部共建高品质特殊钢治金与制备国家重点实验室, 上海 200012, 中国[4] 上海大学, 上海市省部共建高品质特殊钢治金与制备国家重点实验室, 上海 200012, 中国[5] 中国科学院宁波材料技术与工程研究所, 宁波, 浙江 315201, 中国
推荐引用方式 GB/T 7714	李沛[1],谷文翠[2],钟庆东[3],等. 偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB_2基涂层结构及力学性能的影响[J]. 真空科学与技术学报,2015,35:594-600.
APA	李沛[1],谷文翠[2],钟庆东[3],贾丛丛[4],&黄峰[5].(2015).偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB_2基涂层结构及力学性能的影响.真空科学与技术学报,35,594-600.
MLA	李沛[1],et al."偏压对磁控溅射制备Ni掺杂TiB_2基涂层结构及力学性能的影响".真空科学与技术学报 35(2015):594-600.

个性服务

查看访问统计

相关权益政策

暂无数据

收藏/分享

除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。