QQ客服 官方微博 反馈留言

	抛光铜衬底表面形貌对CVD制备石墨烯的影响?
	Feng, Wei[1]; Zhang, Jian-Hua[2]; Yang, Lian-Qiao[3]
刊名	功能材料
	2015
卷号	46页码:1129-1134
关键词	石墨烯 铜 化学气沉淀法 电化学抛光
ISSN号	1001-9731
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2269730
专题	上海大学
作者单位	[1]Key Laboratory of Advanced Display and System Applications, Ministry of Education, Shanghai University, Shanghai, China |School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai, China[2]Key Laboratory of Advanced Display and System Applications, Ministry of Education, Shanghai University, Shanghai, China [3]Key Laboratory of Advanced Display and System Applications, Ministry of Education, Shanghai University, Shanghai, China
推荐引用方式 GB/T 7714	Feng, Wei[1],Zhang, Jian-Hua[2],Yang, Lian-Qiao[3]. 抛光铜衬底表面形貌对CVD制备石墨烯的影响?[J]. 功能材料,2015,46:1129-1134.
APA	Feng, Wei[1],Zhang, Jian-Hua[2],&Yang, Lian-Qiao[3].(2015).抛光铜衬底表面形貌对CVD制备石墨烯的影响?.功能材料,46,1129-1134.
MLA	Feng, Wei[1],et al."抛光铜衬底表面形貌对CVD制备石墨烯的影响?".功能材料 46(2015):1129-1134.

个性服务

查看访问统计

相关权益政策

暂无数据

收藏/分享

除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。