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	CVD金刚石（膜）制备技术及应用进展
	马国欣[1,2]; 向鹏[1,2]; 邱胜宝[2]; 邬纪泽[2,3]
刊名	《真空电子技术》
	2009
页码	5-11
关键词	CVD 金刚石 薄膜 应用
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2263264
专题	华南理工大学
作者单位	1.[1]华南理工大学电子与信息学院,广东广州510641 2.[2]广州中国科学院工业技术研究院,广东广州511458 3.[3]中国科学院成都光电技术研究所,四川成都610209
推荐引用方式 GB/T 7714	马国欣[1,2],向鹏[1,2],邱胜宝[2],等. CVD金刚石（膜）制备技术及应用进展[J]. 《真空电子技术》,2009:5-11.
APA	马国欣[1,2],向鹏[1,2],邱胜宝[2],&邬纪泽[2,3].(2009).CVD金刚石（膜）制备技术及应用进展.《真空电子技术》,5-11.
MLA	马国欣[1,2],et al."CVD金刚石（膜）制备技术及应用进展".《真空电子技术》 (2009):5-11.

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