| 高反膜镀制工艺研究的新进展 | |
| 邓婷[1]; 黄光周[1]; 刘雄英[1] 朱建明[2] 戴晋福[2] | |
| 刊名 | 《真空电子技术》
 |
| 2009 | |
| 页码 | 30-36 |
| 关键词 | 高反膜 反射率 制备工艺 损伤阈值 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2263235 |
| 专题 | 华南理工大学 |
| 作者单位 | [1]华南理工大学电子与信息学院,广东广州510640 [2]广东肇庆市科润真空设备有限公司,广东肇庆526060 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 邓婷[1],黄光周[1],刘雄英[1] 朱建明[2] 戴晋福[2]. 高反膜镀制工艺研究的新进展[J]. 《真空电子技术》,2009:30-36. |
| APA | 邓婷[1],黄光周[1],&刘雄英[1] 朱建明[2] 戴晋福[2].(2009).高反膜镀制工艺研究的新进展.《真空电子技术》,30-36. |
| MLA | 邓婷[1],et al."高反膜镀制工艺研究的新进展".《真空电子技术》 (2009):30-36. |
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