低压化学气相沉积(LPCVD)低温制备VO_2薄膜 | |
郭贝贝[1]; 万冬云[2]; 高彦峰[3] | |
2016 | |
会议名称 | 中国化学会第30届学术年会 |
会议日期 | 2016-07-01 |
关键词 | 低温 低压化学气相沉积法(LPCVD) VO_2基智能窗 热致变色 两步沉积 |
页码 | 1 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 会议论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2236658 |
专题 | 上海大学 |
作者单位 | [1]上海大学材料科学与工程学院[2]上海大学材料科学与工程学院[3]上海大学材料科学与工程学院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 郭贝贝[1],万冬云[2],高彦峰[3]. 低压化学气相沉积(LPCVD)低温制备VO_2薄膜[C]. 见:中国化学会第30届学术年会. 2016-07-01. |
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