| 钨铜基板上氮化铝薄膜的沉积 | |
| 王振[1]; 罗穆伟[2]; 姚俊涛[3]; 丁志春[4]; 朱玉斌[5] | |
| 刊名 | 热加工工艺
 |
| 2016 | |
| 卷号 | 45页码:130-133 |
| 关键词 | 反应磁控溅射 AlN薄膜 钨铜基板 |
| ISSN号 | 1001-3814 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2233009 |
| 专题 | 上海大学 |
| 作者单位 | [1] 上海大学材料科学与工程学院, 上海 200444, 中国[2] 上海大学材料科学与工程学院, 上海 200444, 中国[3] 上海大学材料科学与工程学院, 上海 200444, 中国[4] 上海大学材料科学与工程学院, 上海 200444, 中国[5] 上海大学材料科学与工程学院, 上海 200444, 中国 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王振[1],罗穆伟[2],姚俊涛[3],等. 钨铜基板上氮化铝薄膜的沉积[J]. 热加工工艺,2016,45:130-133. |
| APA | 王振[1],罗穆伟[2],姚俊涛[3],丁志春[4],&朱玉斌[5].(2016).钨铜基板上氮化铝薄膜的沉积.热加工工艺,45,130-133. |
| MLA | 王振[1],et al."钨铜基板上氮化铝薄膜的沉积".热加工工艺 45(2016):130-133. |
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