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基于背景校正和图像分割定量分析光学元件表面疵病的新算法
张博[1]; 倪开灶[2]; 王林军[3]; 刘世杰[4]; 吴伦哲[5]
刊名光学学报
2016
页码120-129
关键词成像系统 表面疵病 背景校正 图像梯度 最大类间方差法
ISSN号0253-2239
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内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2229369
专题上海大学
作者单位1.上海大学材料科学与工程学院
2.中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
张博[1],倪开灶[2],王林军[3],等. 基于背景校正和图像分割定量分析光学元件表面疵病的新算法[J]. 光学学报,2016:120-129.
APA 张博[1],倪开灶[2],王林军[3],刘世杰[4],&吴伦哲[5].(2016).基于背景校正和图像分割定量分析光学元件表面疵病的新算法.光学学报,120-129.
MLA 张博[1],et al."基于背景校正和图像分割定量分析光学元件表面疵病的新算法".光学学报 (2016):120-129.
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